本研究考察了這些HF最終工藝對干燥后南水標(biāo)記的生成有何影響。?通過對Teflon、SiO2、Silicon分別進(jìn)行適當(dāng)?shù)那逑床襟E，制備了具有親水性和疏水性表面的試樣，然后用動態(tài)接觸角度分析器(DCA)分析了各試樣的接觸性。這樣準(zhǔn)備的每個具有不同接觸性的詩篇上滴下10ul的超純水(18.2M0-cm)，然后在30 ℃、N2和O2氣氛中干燥，故意生成了water mark。將生成的水標(biāo)記的大小與接觸角和干燥氣氛相關(guān)聯(lián)，進(jìn)行了比較分析。

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清洗后測量的接觸角等于表1，接觸角測定結(jié)果表明，HF處理的硅和Teflon表現(xiàn)出大接觸角的疏水性，SiO2和HF未處理的硅表現(xiàn)出低接觸角的親水性，針對這些不同接觸性的詩篇，將O2和N2中殘留在高敵人詩篇表面的水滴干燥后，在親水性和疏水性的詩篇母豆中產(chǎn)生了water mark，但是，如圖1所示，在初始水滴和水標(biāo)記大小的差異值上，對于其他詩篇，N2和O2的差異值，值為0.2毫米左右，幾乎沒有差異，而HF處理的硅的差異為0.8毫米，可見其表面與O2產(chǎn)生了某種化學(xué)反雄，另一方面，故意將直徑為2.04uma的球形聚天龍顆粒塞進(jìn)水滴內(nèi)，觀察水滴照射后這些顆粒的分布情況。??

結(jié)果，疏水性的詩篇將這些粒子密集在一起，形成了一個致密的團(tuán)，而在親水性的情況下，這些粒子分布得很廣。分析認(rèn)為，水滴內(nèi)存在的異物根據(jù)表面狀態(tài)(表示不同的接觸性)的不同行為，結(jié)果產(chǎn)生不同方面的水標(biāo)記。

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