1981年，上海光學(xué)機(jī)械廠，JKG-3型半自動(dòng)接近式光刻機(jī)； 1982年，四機(jī)部1448所，我國(guó)第一臺(tái)高精度電子束曝光機(jī)； 1983年，國(guó)防科技大學(xué)，我國(guó)第一臺(tái)億次巨型計(jì)算機(jī)-銀河1號(hào)； 1983年，中科院計(jì)算所，我國(guó)第一臺(tái)千萬(wàn)次大型向量計(jì)算機(jī)-757機(jī)； 1983年，中科院半導(dǎo)體所，LSK-500型離子束刻蝕機(jī)； 1985年，華東計(jì)算技術(shù)研究所，我國(guó)第一臺(tái)與國(guó)際主流系統(tǒng)兼容的8030中型計(jì)算機(jī)； 1985年，電子部48所，我國(guó)第一臺(tái)三室結(jié)構(gòu)的FW-1型分子束外延設(shè)備； 1987年，電子部48所，我國(guó)第一臺(tái)能量為700keV的高能離子注入機(jī)； 1988年，機(jī)械電子部48所，LD-1型離子束刻蝕鍍膜機(jī)； 1990年，中科院光電所，國(guó)內(nèi)首臺(tái)1.5-2微米DSW投影光刻機(jī)， 1992年，國(guó)防科技大學(xué)，我國(guó)第一臺(tái)10億次巨型計(jì)算機(jī)-銀河2號(hào)； 1995年，電子部45所，BG-601型大面積自動(dòng)曝光機(jī)