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氦質(zhì)譜檢漏儀在PECVD鍍膜設(shè)備工藝中的應(yīng)用

2022-08-05 13:25 作者:NOY諾益科技  | 我要投稿

等離子增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)真空鍍膜設(shè)備是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行,利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)。其優(yōu)點是基本溫度低;沉積速率快;成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂。

氦質(zhì)譜檢漏儀真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用

PECVD真空鍍膜設(shè)備幾天就需要保養(yǎng)一次(清潔MASK, 更換支架等等), 由于是清潔設(shè)備內(nèi)部, 所以存在內(nèi)部腔體密封性失效的可能. 如果鍍膜設(shè)備密封性不好, 鍍出來的產(chǎn)品膜厚會不均勻, 產(chǎn)品四周膜參數(shù)會不合格.

在PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應(yīng)氣體分子,就會使中性反應(yīng)氣體分子變成碎片或處于激活的狀態(tài)容易發(fā)生反應(yīng)。因此PECVD設(shè)備對反應(yīng)腔室及管道的泄漏要求很高,必須要應(yīng)用氦質(zhì)譜檢漏儀來查找漏點。如果鍍膜設(shè)備保養(yǎng)完成后, 能做一次氦質(zhì)譜檢漏, 就可以避免很多不合格產(chǎn)品的產(chǎn)生, 達(dá)到節(jié)約生產(chǎn)成本的目的.

安徽諾益科技生產(chǎn)的氦質(zhì)譜檢漏儀憑借卓越的品質(zhì)及穩(wěn)定的性能已廣泛應(yīng)用在眾多行業(yè)上,滿足各種應(yīng)用.公司建立了完善的售后服務(wù)體系,配備了專業(yè)的維修工程師,對客戶的服務(wù)要求實行24小時響應(yīng),為產(chǎn)品的穩(wěn)定運行提供了有力的保障。

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